製品情報

フォトリソグラフィ用薬品

 超微細化する半導体デバイスや、高精細・高機能化が進むフラットパネルディスプレイ。めまぐるしく進展する半導体やフラットパネル製造の世界において、迅速な開発力が必要とされるフォトレジスト(感光性材料)やレジスト剥離剤などの各種製品を製造しています。またプロセス管理の面においてもお客様への提案力に優れた実績を有するなど、エレクトロニクス業界の発展に貢献しています。

レジスト剥離剤

用途 製品名 液状 使用条件 リンス液 剥離性能 AL
腐食性
粘度 法規
℃/分 ポジ
除去
残渣
除去
mPa・s
(25℃)
消防法 PRTR
FPD N-327 水系 常温~50
/1~5
8 非該当 非該当
N-342 水系 常温~50
/1~5
10 非該当 該当
N-300 非水系 60~120
/1~20
アルコール 10 4類
3石
該当
半導体 N-530 非水系 80~100
/10~20
溶剤 3 4類
3石
該当
N-530HS 非水系 80~100
/10~20
溶剤 6 4類
3石
該当

※下記シリーズに関しては、直接、お問い合わせください。

  • ACTシリーズ
  • Cu配線用レジスト剥離剤
  • 厚膜レジスト(ポジ/ネガ)用剥離剤
  • Al・Cu/p-Lowk用ドライエッチング・アッシング残渣除去剤
  • ドライフィルムレジスト用剥離剤

エッチング剤

Cr エッチャント 各種、エッチング液を取り揃えています。
Al エッチャント 各種、エッチング液を取り揃えています。
ITO エッチャント 各種、エッチング液を取り揃えています。
Cu エッチャント お客様のニーズに合わせて、検討いたします。

*その他の材料に関しては、直接お問い合わせください。

細線パターン形成用フォトレジスト

● リフトオフプロセス用  NPR9700 series

  • リフトオフプロセス用ポジ型レジスト
  • g線~i線露光可
  • 特殊な工程を用いることなく、容易にテーパー形状の形成が可能
  • エッチングプロセス省略によるコスト低減
  • 良好な剥離性
  • その他、ご要望の膜厚に応じた粘度を提案いたします
    用途例:電子材料

現像後

● メタルエッチング用  GRX-M series

  • メタルエッチング用ポジ型レジスト
  • スピンコーター・CAPコーターでの塗工が可能。大面積基板での高い塗布均一性を確保
  • g線~i線露光可。レーザー描画可
  • 有機・無機現像可能
  • 高解像性( ≒ 0.5μm)、広い現像マージンを有する
  • 優れた密着性(サイドエッチが少ない)
  • 良好な剥離性
  • 用途例:液晶ディスプレイ

● その他、各種特殊レジスト、及び感光性絶縁膜等の開発を行っています。お気軽にお問い合わせください。

ウェットエッチング後

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